Reinigung


NK PURE (< 5ppm)

Hochtemperaturreinigung für Halbleiter-, Photovoltaik-, medizinische und industrielle Anwendungen:

Für Halbleiter- und andere Anwendungen, die hochreines Graphitmaterial erfordern, bietet NKCG eine Reinigung nach der Bearbeitung der Graphitstücke an.
Mit dem NK PURE-Verfahren werden Verunreinigungen entfernt, ohne dass die Integrität oder die Eigenschaften des Graphits verändert werden. Je nach Reinheitsanforderungen stehen verschiedene Verfahren zur Verfügung (Hochtemperatur mit oder ohne reaktive Gase), welche zu unterschiedlichen Endreinheiten der Graphitstücke führen.
Die Reinigung wird mittels ICP-OES und/oder GDMS überprüft. Als typischer Wert nach der Reinigung werden Gesamtverunreinigungen von unter 5 ppm erreicht.


Typisches Auftreten einiger relevanter Verunreinigungen nach der Reinigung

(gemessene Werte können je nach Grad der durchgeführten Reinigung variieren)

 

  • Die Messungen werden von unabhängigen externen Labors durchgeführt; ein entsprechendes Zertifikat kann auf Anfrage ausgestellt werden.
  • Es können verschiedene Messmethoden genutzt werden, sowohl für die Oberflächen- als auch für die Mengenmessung.
  • Bitte setzen Sie sich mit uns in Verbindung, wenn Sie spezielle Anforderungen haben (Elemente, Probenvorbereitung, Messmethoden etc.).

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