Es la clave para soluciones duraderas, eficientes y económicas. En Nippon Kornmeyer, desarrollamos y perfeccionamos procesos que marcan la diferencia: desde recubrimientos patentados hasta procesos precisos de infiltración y modificación.
Nuestro objetivo: optimizar las propiedades de los materiales para que sus componentes duren más, tengan un mejor rendimiento y sus procesos sean más fiables. Para lograrlo, no solo contamos con décadas de experiencia en procesos de alta temperatura y desarrollo de materiales, sino que también colaboramos activamente con institutos de investigación líderes, como el Instituto Fraunhofer , y participamos en proyectos de investigación nacionales e internacionales .
Esta estrecha colaboración en I+D nos permite adaptar las tecnologías a las nuevas demandas del mercado en una fase temprana e incorporar las innovaciones a la práctica industrial con mayor rapidez.
Protección contra la oxidación y la corrosión del grafito.
Carburo de silicio depositado mediante CVD para máxima pureza y resistencia química. Ideal para sustratos de obleas y fabricación de semiconductores.
Más información sobre el recubrimiento CVD.
Recubrimientos e infiltraciones de PyC mediante CVD/CVI para grafito y CFC. Optimización de la porosidad, la estanqueidad a los gases y la resistencia a la oxidación; versiones de alta pureza disponibles.
Más información sobre PyC.
Carburo de silicio monolítico hecho de grafito.