È la chiave per soluzioni durevoli, efficienti ed economiche. Noi di Nippon Kornmeyer sviluppiamo e perfezioniamo processi che fanno la differenza: dai rivestimenti brevettati ai processi di infiltrazione e modifica di precisione.
Il nostro obiettivo: ottimizzare le proprietà dei materiali affinché i vostri componenti durino più a lungo, offrano prestazioni migliori e i vostri processi siano più affidabili. Per raggiungere questo obiettivo, ci avvaliamo non solo di decenni di esperienza nei processi ad alta temperatura e nello sviluppo di materiali, ma collaboriamo attivamente con istituti di ricerca leader, come il Fraunhofer Institute , e partecipiamo a progetti di ricerca nazionali e internazionali.
Questa stretta collaborazione in ambito R&S ci consente di adattare le tecnologie alle nuove esigenze del mercato in una fase iniziale e di introdurre più rapidamente le innovazioni nella pratica industriale.
Protezione dalla corrosione e dall'ossidazione della grafite.
Carburo di silicio depositato tramite CVD per la massima purezza e resistenza chimica. Ideale per substrati wafer e produzione di semiconduttori.
Scopri di più sul rivestimento CVD.
Rivestimenti e infiltrazioni PyC CVD/CVI per grafite e CFC. Ottimizza porosità, tenuta ai gas e resistenza all'ossidazione: disponibili versioni ad elevata purezza.
Scopri di più su PyC.
Carburo di silicio monolitico in grafite.