Es ist der Schlüssel zu langlebigen, effizienten und wirtschaftlichen Lösungen. Bei Nippon Kornmeyer entwickeln und verfeinern wir Verfahren, die den Unterschied machen: von patentierten Beschichtungen bis zu präzisen Infiltrations- und Modifikationsprozessen.
Unser Ziel: Materialeigenschaften so optimieren, dass Ihre Komponenten länger halten, besser performen und Ihre Prozesse zuverlässiger laufen. Dazu greifen wir nicht nur auf jahrzehntelange Erfahrung in Hochtemperaturprozessen und Werkstoffentwicklung zurück, sondern arbeiten auch aktiv mit führenden Forschungsinstituten – wie dem Fraunhofer-Institut – sowie in nationalen und internationalen Forschungsprojekten.
Diese enge R&D-Zusammenarbeit ermöglicht es uns, Technologien frühzeitig auf neue Marktanforderungen anzupassen und Innovationen schneller in die industrielle Praxis zu bringen.
Oxidations- und Korrosionsschutz für Graphit.
CVD-abgeschiedenes Siliziumcarbid für maximale Reinheit und chemische Beständigkeit. Ideal für Waferträger und Halbleiterfertigung.
Mehr zur CVD-Beschichtung
CVD/CVI-PyC-Beschichtungen und Infiltrationen für Graphit und CFC. Optimieren Porosität, Gasdichtigkeit, Oxidationsbeständigkeit – hochreine Ausführung möglich.
Mehr zu PyC
Monolithisches Siliziumcarbid aus Graphit.