Die chemische Gasphasenabscheidung (CVD) ist ein vielseitiges Verfahren zur Herstellung von Beschichtungen. Im Grunde handelt es sich dabei um eine chemische Reaktion zwischen einem Trägermaterial und Vorläufersubstanzen aus der Gasphase. Beschichtungen der NKCG basieren auf dem thermischen CVD-Verfahren, bei dem der Abscheidungsprozess durch Wärme begünstigt wird.
Der CVD-Prozess ermöglicht eine Abscheidung homogener Schichten von Nanometern bis zu Mikrometern auf der Oberfläche einer Vielzahl von Substraten (Form oder Material).
Bei manchen Anwendungen, z. B. Verstärkung von CFC oder Isolierstoffen, ist es allerdings erforderlich, die Beschichtung innerhalb der Poren des Materials aufzutragen, ohne diese zu verschließen.
Für derartige Anwendungen bietet NKCG das Verfahren der chemischen Gasinfiltration (CVI) an – eine Art von CVD, bei der das reaktive Gas das zu beschichtende poröse Material infiltriert.
Der CVI-Prozess ermöglicht die Abscheidung in der Tiefe, womit die Struktur des Materials verdichtet wird. Am Standort Windhagen verfügt NKCG über mehrere Anlagen für die Abscheidung von Beschichtungen mittels CVD oder CVI und kann diese Verfahren einsetzen, um spezifische Kundenanforderungen zu erfüllen.
