Le dépôt chimique en phase vapeur sous vide (CVD - Chemical Vapeur Deposition) est une méthode utilisée par NKCG pour produire des matériaux solides, de haute qualité et de haute performance.
Le CVD est un procédé impliquant des réactions chimiques entre un matériau de substrats et des gaz pour produire un dépôt de couches homogènes de nanomillimètre jusqu’au micromètre sur la surface d`une large gamme de substrats.
Cependant, certaines applications, telles que le renforcement des composites CFC ou d’isolation thermique, nécessitent que le revêtement soit déposé à l’intérieur des pores du matériau sans les refermer.
Pour ces applications, NKCG propose une infiltration chimique en phase vapeur (CVI - Chemical Vapor Infiltration) permettant un dépôt en profondeur dans la structure du matériau.
À Windhagen, NKCG dispose de plusieurs installations dédiées au dépôt par voie gazeuse CVD ou CVI permettant ainsi de répondre aux exigences des Clients.
